次声作用对CHO细胞膜的影响

目的应用原子力显微镜对经次声作用后的CHO细胞膜进行观察，以探讨次声对细胞膜超微结构的影响。方法采用8Hz、130dB的次声作用于CHO细胞，并利用原子力显微镜对正常及经次声作用后的CHO细胞膜表面进行纳米级水平的扫描检测。结果CH0细胞经次声作用后，其细胞膜表面突起明显变短、凹陷变浅，整个细胞膜表面结构变得较为平缓，并且随着次声作用次数的增加，其改变程度亦愈加显著。结论一定强度的次声作用可引起细胞膜表面超微结构的直接改变，并且次声作用次数越多，该变化就越显著。